當前位置：首頁>產品展示>非標定制設備

脈沖激光沉積腔體系統

脈沖激光沉積腔體系統（PLD系統）是一個基于不銹鋼圓形腔 室的真空設備。該腔室多個法蘭口可安裝實驗配件，包括RHEED、 發射光譜、高溫測定、薄膜沉積晶振等，實現對薄膜生長速率的控 制。該設備主要包括真空系統、磁耦合轉靶機構，高溫加熱伸縮機 構。

• 產品詳情
• 產品圖片